Standard di trattamento superficiale dello stampo (aggiornamento 2025)
Selezionare i processi di trattamento superficiale in base al materiale dello stampo, all'applicazione e ai requisiti di costo:
Processo | Materiali applicabili | Durezza della superficie (HV) | Miglioramento della resistenza all'usura | Costo (CNY/cm²) | Norme internazionali |
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Nitrurazione | Acciaio per utensili (H13, SKD61) | 800-1200 | 2-3 volte | 0.8-1.5 | norma ISO 2639:2025 |
Placatura cromata dura | Acciaio al carbonio, acciaio inossidabile | 900-1100 | 1,5-2x | 2-4 | ASTM B650-2025 |
rivestimento PVD | Stampa in acciaio, carburo | 2000-3500 | 4-8x | 5-12 | norma ISO 20523:2025 |
rivestimento laser | Riparazione area ad alta usura | 600-1500 | 3-5 volte | 15-30 | norma ASTM F3056-2025 |
Sabbiatura + Passivazione | Leghe di alluminio/zinco | Ra ≤0,4 μm | Resistenza alla corrosione migliorata | 0.3-0.8 | ISO 8503-2:2025 |
Nitriding:
Profondità della cassa: 0,1-0,3 mm (Temperatura: 500-550°C)
Limitazione: Non adatto per stampi in acciaio con contenuto di rame > 0.5%
Rivestimento PVD (TiAlN/DLC):
Spessore del rivestimento: 2-5 μm, resistenza della temperatura ≤800°C
Pre-lucidatura richiesta: Ra ≤0.2 μm
Placatura cromata dura:
Spessore di placcatura: 10-50 μm, rischio di ingrossamento dell'idrogeno (post-trattamento: 200 ° C / 4 ore di disidrognazione)
Conformità: soddisfa i limiti di cromo esavalente RoHS 2025 UE
Evitare le caratteristiche a rischio di guasto:
Angoli interni taglienti: raggio del filetto ≥0,3 mm (impedisce la delaminazione del rivestimento)
Groove profonde/fori fini: larghezza/diametro ≥1 mm (assicura l'uniformità del rivestimento)
Strategie di miglioramento della durata della vita:
Aree ad alta usura: rivestimento laser locale + rivestimento nanocomposito (aumento della durata del 300%)
Canali di raffreddamento: lucidatura elettrolitica (Ra ≤0,8 μm, riduce l'accumulo di scala)
Rivestimento auto-curativo intelligente:
Tecnologia a rilascio lento della microcapsula: ripara graffi ≤20 μm di profondità
Intervalo di temperatura: -30°C ~ 250°C (conforme alla norma ISO 21714:2025)
Solforizzazione criogenica del plasma:
Coefficiente di attrito ridotto a 0,02-0,05 (ideale per stampi a iniezione di precisione)
Tempo di lavorazione: 30-60 min, Costo: ¥6-10 CNY/cm²
Grado | Ruosità della superficie (Ra) | Durezza (HV) | Applicazioni |
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Grado di precisione (classe A) | ≤ 0,1 μM | ≥2000 | Stampi per lenti ottiche, stampi microstrutturati |
Grado generale (classe B) | ≤ 0,4 μM | ≥1000 | Pezzi automobilistici, stampi connettori |
Classe economica (classe C) | ≤ 1,6 μM | ≥800 | Imballaggio stampi, stampi a bassa complessità |
Nota:
Soluzioni personalizzate (ad esempio rivestimenti resistenti agli acidi o antiaderenti) richiedono trattamenti ibridi (ad esempio rivestimenti compositi CrN+PTFE);
Tutti i processi devono essere conformi alla certificazione di controllo qualità ISO 9001:2025.
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